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CoSi2 Cobalt Silicide
Nom chinois : siliciure de cobalt
Formule chimique : CoSi2
Poids moléculaire : 115,104
N° CAS : 12017-12-8
EINECS n° 234-616-8
Densité : 5,3 g/cm3
Point de fusion : 1277 ℃
Constante de réseau : a=0,535 nm
Crystal system: cubic system crystal
Aspect : poudre céramique de siliciure grise
Solubilité : insoluble dans l'eau
Property and stability: It will not decompose if used and stored according to specifications. CoSi2 can react with hot hydrochloric acid,
Soluble in hydrochloric acid, insoluble in sulfuric acid. It can be dissolved by aqua regia, concentrated nitric acid, strong alkaline solution, and molten alkali hydroxide and carbon
Il est érodé par les acides et les alcalis. Il peut réagir avec le sulfure d'hydrogène, le fluorure d'hydrogène, le chlorure d'hydrogène, le fluor, le chlore, etc.
Méthode de synthèse :
Mélangez uniformément la poudre de cobalt et la poudre de silicium en fonction de la composition chimique du CoSi2 et faites-les fondre dans des conditions d'isolation de l'air.
Faites fondre et maintenez-le à 1150 ℃ pendant 100h pour l'homogénéiser complètement, et le produit est presque monophasé
CoSi2.
Application : la poudre de siliciure de cobalt présente les caractéristiques d'une faible résistivité et d'une bonne stabilité thermique, et est principalement utilisée pour l'énergie intégrée à grande échelle.
Route. De plus, le siliciure de cobalt a une structure cristalline similaire à celle du silicium, ce qui permet de réaliser une épitaxie sur un substrat de silicium.
Structure CoSi2/Si pour étudier les caractéristiques d'interface du silicium métallique épitaxié. Le siliciure de cobalt (cosix) est un métal et un semi-conducteur
Les matériaux largement utilisés pour la connexion sont utilisés comme interconnexion entre l'électrode de base du semi-conducteur et le fil métallique.
Travaillez dans l'appareil.
Méthode de stockage : conserver dans un environnement sec et frais, non exposé à l'air, et éviter l'oxydation et l'agglomération dues à l'humidité,
It affects the dispersion performance and use effect.
